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钻研人员发现低成本出产SiC的工艺

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碳化硅(SiC),这种宽能隙的半导体组件可用于打造更优质的晶体管,取代当今的硅功率晶体管,并与二极管共同搭配,提供最低温度、最高频率的功率组件。。 SiC晶体管所产生的热也比硅功率晶体管更低30%,然而,它的成本至今依然比硅更高5倍。。


为了降低SiC的制作成本,美国北卡罗莱纳州立大学的钻研人员设计了一种PRESiCE工艺,并搭配TI X-Fab实现低成本的SiC功率MOSFET,日前于美国华府进行的2017年碳化硅及有关资料国际会议(International Conference on Silicon Carbide and Related Materials;;;ICSCRM 2017)颁发技术细节。。

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为了寻找低成本授权的工艺以降低这些阻碍,Baliga及其钻研团队设计了一种“制作SiC电子组件之工程工艺”(Process Engineered for Manufacturing SiC Electronic-devices;;;PRESiCE),并选取德州仪器(Texas Instruments ;;;TI)的X-Fab来实现。。

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凭据Baliga,PRESTICE并不只是一种开发SiC工艺的低成本代替步骤,它也比传统的专有工艺更有效率。。降低授权成本将有助于让更多的业者参与市场竞争,从而提高SiC的产量。。反过来说,这也不成预防线会降低SiC的价值,或许还会降低到只比硅的价值多50%。。


SiC功率组件除了可作业于较低的温度下,也能够在更高的频率下切换,从而让功率电子产品得以使用较小的电容、电感和其他被动组件,最终使得设计人员能在更小的空间中封装更多组件,而仍使其维持轻量纤薄。。 Baliga说,PRESiCE工艺能实现较高产量,并严格节制产出SiC组件的个性。。


编译:Susan Hong




文章来自《EET电子工程专辑》


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标签:   碳化硅 半导体 晶体
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