硅是世界上使用最宽泛的元素之一。！３噬罨疑桶虢鹗衾渡。！Ｋ娜鄣阄1410°C，，密度为2.32克/立方厘米，，在1337°C下，，蒸汽压力为10-4 托.它是一种脆性类金属，，容易碎裂。！５缱雍屯扑慊ひ抵写罅渴褂霉枳魑氲继。！Ｆ揪堇，，它往往掺杂砷，，磷，，或硼。！Ｔ谡婵障抡舳，，用于电路装置、、数据存储装置和电池制作。！
| 资料 | 硅 (P-type) |
| 化学成分 | Si (P-type) |
| 原子量 | 28.0855 |
| 原子序数 | 14 |
| 纯度 | 3N5-5N |
| 色彩/外观 | 深灰蓝色/半金属 |
| 导热性 | 150 W/m.K |
| 熔点 (°C) | 1,410 |
| 体电阻率 | 0.005-0.020 OHM-CM |
| 热膨胀系数 | 2.6 x 10-6/K |
| 理论密度 (g/cc) | 2.32 |
| 掺杂剂 | 硼 |
| Z比率 | 0.712 |
| 电子束 | 通常 |
真空蒸镀是指在真空中通过电流加热，，电子束轰击加热和激光加热等步骤，，使被蒸资料蒸发成原子或分子，，它们随即以较大的自由程作直线活动，，碰撞基片理论而凝固，，形成薄膜。！
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